Láser de pulsos concentrado pequeño II

Variations

	Type
	Láser de pulsos concentrado pequeño I		T1	15 tf	10 MW	5,250 m
	Láser de pulsos modal concentrado pequeño I		T1	12 tf	10 MW	5,775 m
	Láser de pulsos afocal concentrado pequeño I		T1	13 tf	10 MW	5,513 m
	Rayo de energía de pulso modulado concentrado pequeño I		T1	11 tf	10 MW	6,300 m
	Flujo de partículas pulsadas de ánodo concentrado pequeño I		T1	14 tf	10 MW	6,038 m
	Láser de pulsos concentrado pequeño II		T2	16 tf	11 MW	6,300 m
	Láser de pulsos concentrado polarizado pequeño		T2	14 tf	10 MW	5,040 m
	Láser de pulsos concentrado pequeño Longbow I		Historia	12 tf	9 MW	5,250 m
	Láser de pulsos concentrado pequeño de los Sanguinarios Oscuros		Facción	11 tf	10 MW	6,563 m
	Láser de pulsos concentrado de los Sanshas Verdaderos (pequeño)		Facción	11 tf	10 MW	6,563 m
	Láser de pulsos concentrado pequeño de la Armada Ammatar		Facción	11 tf	10 MW	6,563 m
	Láser de pulsos concentrado pequeño de la Armada Imperial		Facción	11 tf	10 MW	6,563 m
	Láser de pulsos concentrado pequeño modificado de Makra		Oficial	16 tf	12 MW	6,563 m
	Láser de pulsos concentrado pequeño modificado de Usaras		Oficial	16 tf	12 MW	6,563 m

Market

Basic

Mass:

500 kg

Packaged volume:

5 m³

Portion size:

1

Nivel de tecnología:

2

Metanivel:

5

Vida estructura:

40 HP

Capacidad:

1 m³

Volumen:

5 m³

Masa:

500 kg

radius:

1 m

Cargo

Capacidad:

1 m³

Fitting

Uso de la CPU:

16 tf

Uso del sistema de potencia:

11 MW

Coste de activación:

4 GJ

Targeting

Resolución de señal:

40,000 m

Weapon

Modificador de daño:

3.6 x

Alcance efectivo de precisión:

2,500 m

Alcance óptimo:

6,300 m

Cadencia de tiro:

3.5s

Rastreo de torreta:

246.25

Tiempo de recarga:

0s

Se usa con (grupo de carga):

Cristal de frecuencia

Se usa con (grupo de carga):

Cristal avanzado de láser de pulsos

Ammunition

Tamaño de carga:

small

Required Skills

Overloading

Nivel de Termodinámica necesario:

1

Daño por calor:

1 HP

Bonificación de daño de sobrecarga:

15 %

heatAbsorbtionRateModifier:

0.02

Structure

Vida estructura:

40 HP

Produced from

Blueprint manufacturing:

Plano de láser de pulsos concentrado pequeño II

Engineering Rig

Source rigs (manufacturing):

Eficiencia temporal en la fabricación de equipo Standup I (M)

Eficiencia temporal en la fabricación de equipo Standup II (M)

Eficiencia en la fabricación de equipo Standup I (G)

Eficiencia en la fabricación de equipo Standup II (G)

Eficiencia en la fabricación de equipo y consumibles Standup I (XL)

Eficiencia en la fabricación de equipo y consumibles Standup II (XL)

Eficiencia de materiales en la fabricación de equipo Standup I (M)

Eficiencia de materiales en la fabricación de equipo Standup II (M)

Complemento de puesto M3RPF de Upwell

Complemento de puesto avanzado M3P-RF de Upwell

Complemento de puesto M3R-F de Upwell

Complemento de puesto avanzado M3ROF de Upwell

Complemento de puesto M3RFO de Upwell

Reprocessing

Portion size:

1

Industry

• View blueprints (1)
• Adam4Eve Material Influence

Other

slots:

1

targetModule:

0

typeColorScheme:

11314

Type Info

Type ID:

3041

Capacity:

1 m³

Graphic ID:

11219

Group ID:

Arma de energía

Icon ID:

350

Market group ID:

Pequeño

Meta group ID:

T2

Published:

true

Radius:

1 m

Volume:

5 m³

Reference Data:

Type JSON

ESI:

View JSON

SDE:

View JSON